其实，在业界，早有人为此提出了解决方案，1986年，此时还在IBM从事成像技术研究的林本兼提出了一个天才的想法：他认为缩短波长的最佳方案是由“干式微影技术”转向“浸润式”。
但，就像历史上曾经多🗻♋次重演过的一样，过于领先的天才想法注定得不到认同，当时整个半导体界还没在光源的波长面前撞墙并吃到苦头，他的“浸润式”技术方案无人问津。
直到2001年，林本兼离开了IBM并加入了台积电，已经完善了“浸润式🎙👜光刻机”理论的他接连发表了三
篇重量级的🙑学术论文，在论文中他指出：既然157n以突破，为什么不退回到技术成熟的193n把透镜和硅片之间的介质从空气换成水，由于水的折射率大约为1.4，那么波长可缩短为193/1.4=132n大大超过攻而不克的157n
而且这个被称做“浸入式光刻技术”的方案还有其他明显优势，第一，由于是利用现有成熟技术改造，资金投入小，可以给半导体设备制造商节省研发投入，并减小芯片制造商的导入成本；第二，如果把介质从水换成其它高折射率液体，波长还可以进一步缩小到13🗁2n下，也就是说提高光刻机的分辨率非常方便。
他开始游说米国、汉斯、倭国的光刻机制造厂们，企图说服🏵🞛大厂们采用“浸入式光刻”⛿☡方案，但，依然都被拒绝。
因为这些大厂都为了157n源投入了巨量的资金，如果现在放弃，从头研发“浸润式方案”，就意味着前期的巨量投入都打了水漂，是个人想想都会🛸♟心疼，而且没法向董事会交代——好吧这些企业后🄤⛌😼来都悔青了肠子。
最后，林本兼找到了🆞彼得🃋🖏﹒韦尼克，这个在当时最不起眼的在众多大厂的🞕夹缝中勉强生存的光刻机生产厂A**L的CEO，两个落魄的天才终于擦出了火花。
彼得.韦尼克在拿到了这个方案的时候，立刻就下定了破罐子破摔…搏一把的决心，押上全🅖部身家，与台积电联合研制这台光刻机。
三年🃫🚫之后的2004年，全球第一台浸润式微🛟🝨🍪影机研发成功。
“浸入式光刻机”一出，基本上宣判了半导体界正在开发的各种“干式”微影技术方案的死刑，因为循着这条技术路径，半导体芯片生产商可以以一☭个不算高昂的成本将芯片制程从65纳米逐步提升至1💜0纳🈸🃊米以内！
而对于任何一家半导体芯片制造企😞🏨业来说，制程，都是第一重要的关键因素，是企业的⛿☡生命线！
制程为什么重要？
答案很简单——因为钱！
在解释清楚这个问题之前，我们首先需要树立一个基本概念——对于芯片制造企业来说，芯片的制造成本与芯片内部的复杂程度无关，而🛲只与芯片的面积有关，换句话说，同样面积的芯片，不管里面包含多🈪🁄🃒少只晶体管、电路多么的复杂，其制造成本几乎是一🙇样的。
这就好比，对一家
承接复印业🙑务的誊🜛🂳💳印社来说，它不会管你复印的那张纸上究竟有🜠多少个字，它只按页数收钱。
明确了这个概念之后，理解下面这个例🕟子就容易了：一♴🌤🁃
块12英寸304.8直径的晶圆，假设用16n工艺可以做出100块芯片的话，那么用10n艺就可以做出210块芯片，于是价格就便宜了一半，在市场上就能死死摁住竞争对手在地上摩擦，赚了钱的同时又可以做更多研发，差距就这么拉开了🂀🜁。
所以，阿斯麦尔的“浸入式光刻机”顿时就成了抢手货，需要排队才能买到，从2004年开始，它只用了短短5年时间，到2009年，其市场占有率就从几乎可以忽略不计一路飙升到了70%，而原先曾经占据50%市场份额的行业老大尼康，其市场占有率顿时就从顶点一路断崖式下坠到了个位数。